超低损耗氮化硅、铌酸锂、硅光芯片为三大光电子集成芯片平台。传统硅光技术，氮化硅薄膜具有低损耗、大光谱范围、光功率大等优点。光学级氮化硅薄膜沉积是该技术的关键，厚薄膜沉积、低应力、低损耗、均匀性、稳定可靠性等技术问题。
