光栅及超级结构加工能力
类型
类型:直光栅/闪光光栅/多级光栅/超结构/短形/圆形/三角形及其组合
加工精度
EBL电子束曝光分辨率：10nm
磁控溅射金属/氧化物镀膜
180°可调IBE离子束刻蚀
ICP等离子体刻蚀
加工尺寸
2吋、4吋、6吋
支持材料
金属:金/银/铜/铝
非金属:非晶硅/Si3N4/SiO2/TiO2/GaN/GaAs/InP
应用范围
AR/VR/PESEL/VCSEL/DFB/光谱分析、激光系统、光学仪器、天文观测、半导体检测等。
千级洁净车间加工，原子力显微镜、光谱仪等设备检测。支持小批量、大批量加工生产。
提供即时报价或1对1工程师对接，质量有保证。
光栅
线宽400nm
光栅
线宽450nm
光栅
线宽450nm